हॉल प्रभाव के सिद्धांत के अनुसार, हॉल क्षमता के आकार पर निर्भर करता है: आरएच हॉल स्थिर है, जो अर्धचालक सामग्री से संबंधित है; मैं हॉल तत्व के पूर्वाग्रह वर्तमान है; बी चुंबकीय क्षेत्र शक्ति है; D अर्धचालक सामग्री की मोटाई है ।
किसी दिए गए हॉल डिवाइस के लिए, उह पूरी तरह से मापा चुंबकीय क्षेत्र शक्ति B पर निर्भर करेगा जब ऑफसेट वर्तमान मैं तय हो गई है ।
हॉल प्रभाव
हॉल प्रभाव
एक हॉल तत्व आमतौर पर चार नेतृत्व टर्मिनलों, जिनमें से दो हॉल है तत्व पूर्वाग्रह वर्तमान मैं और अंय दो के इनपुट टर्मिनलों है हॉल वोल्टेज के उत्पादन टर्मिनलों हैं । यदि दो उत्पादन एक बाहरी पाश फार्म समाप्त होता है, हॉल वर्तमान उत्पंन किया जाएगा । सामांयतया, ऑफसेट वर्तमान की स्थापना आमतौर पर बाहरी संदर्भ वोल्टेज स्रोत द्वारा दिया जाता है । शुद्धता आवश्यकताओं उच्च हैं, तो संदर्भ वोल्टेज स्रोत स्थिरांक वर्तमान स्रोत द्वारा प्रतिस्थापित किया जाता है । आदेश में उच्च संवेदनशीलता को प्राप्त करने के लिए, कुछ हॉल तत्वों संवेदन सतह पर उच्च पारगम्यता कोटिंग मिश्र धातु है । इस तरह के सेंसर की हॉल क्षमता बड़ी है, लेकिन संतृप्ति 0.05 टी के आसपास प्रकट होता है, जो कम सीमा और छोटी रेंज के तहत उपयोग के लिए ही उपयुक्त है.
जब बी की चुंबकीय प्रेरण तीव्रता के साथ एक समान चुंबकीय क्षेत्र अर्धचालक वेफर के दोनों सिरों पर लागू करने के लिए वर्तमान मैं नियंत्रण है, हॉल वोल्टेज जिसका संभावित अंतर उह वर्तमान और चुंबकीय करने के लिए सीधा दिशा में उत्पंन किया जाएगा है फ़ील्ड.
